Tesis:
Contribución al estudio de defectos en capas epitaxiales de GaN. Aplicaciones a dispositivos optoelectrónicos
- Autor: SANCHEZ SANZ, Fernando José
- Título: Contribución al estudio de defectos en capas epitaxiales de GaN. Aplicaciones a dispositivos optoelectrónicos
- Fecha: 1998
- Materia: Sin materia definida
- Escuela: E.T.S. DE INGENIEROS DE TELECOMUNICACION
- Departamentos: INGENIERIA ELECTRONICA
- Acceso electrónico:
- Director/a 1º: CALLEJA PARDO, Enrique
- Resumen: Esta tesis doctoral se ha dedicado al estudio y caracterización de capas epitaxiales de GaN. Este material es un semiconductor de GAP ancho (3,4 eV) que ha despertado un gran interés gracias a sus propiedades que posibilitan su aplicación inmediata a la fabricación de emisores en el azul y UV, detectores de UV y transistores de potencia. Se han estudiado capas crecidas sobre sustratos de zafiro y silicio (III) por dos técnicas diferentes, MBE y MOVPE. Las técnicas empleadas han sido fotoluminiscencia, efecto hall y fotocapacidad. Mediante ellas se han caracterizado defectos en material no dopado y ha sido posible la determinación de la energía de activación de varios dopantes como el Si (donante), el Mg y el Be (aceptores). Finalmente se ha realizado un estudio de la influencia de estos defectos y dopantes sobre las prestaciones de dos dispositivos, un detector de UV fotoconductor y un emisor de radiación azul (diodo electroluminiscente)